一种低能耗阳极渐入式微弧氧化处理方法及装置[发明专利]

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专利名称：一种低能耗阳极渐入式微弧氧化处理方法及装置专利类型：发明专利

发明人：孙强,陈桂涛,姬军鹏,张春明,黄西平申请号：CN201010187768.6申请日：20100601公开号：CN101845655A公开日：20100929

摘要：本发明公开了一种低能耗阳极渐入式微弧氧化处理方法，该方法在大面积工件接触电解液前，在电极两端施加高于起弧电压的电场，微弧氧化电源采用恒压控制；当工件逐渐浸入电解液的过程中，通过检测工件所耗电流大小，相应的调节工件浸入电解液的速度，实现工件表面的快速微弧氧化；在工件完全浸入电解液后，微弧氧化电源采用恒压、恒流或恒功率控制方式完成微弧氧化处理。本发明还公开了上述低能耗阳极渐入式微弧氧化处理方法所使用的装置，该装置包括行车、飞巴、阳极可升降的电解槽构成。利用本发明方法及其装置进行微弧氧化处理，易于实现对大面积工件的快速成膜，有利于节约资源、提高生产效率和产能，并最大限度地发挥电源容量。

申请人：西安理工大学

地址：710048 陕西省西安市金花南路5号

国籍：CN

代理机构：西安弘理专利事务所

代理人：罗笛

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